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FE-3000 OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計 利用顯微的微小領(lǐng)域的優(yōu)良反射率的取得，通過高精度的光干涉法的膜厚解析可能的裝置。 多種多樣的樣品的膜厚·光，除了半導體領(lǐng)域的圖案樣品、透鏡和鉆孔之類的形狀樣品之外，還有表面粗糙度和膜厚不均的樣品。能夠進行定數(shù)分析。OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000OTSUKA大冢-反射性的分鐘光膜厚計FE-3000
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OPTM series OTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM seriesOTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM seriesOTSUKA大冢- 顯微分光膜厚計OPTM series
