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日本大冢量子效率測量系統(tǒng)QE-2100 日本大冢量子效率測量系統(tǒng)QE-2100 日本大冢量子效率測量系統(tǒng)QE-2100
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日本大冢量子效率測量系統(tǒng)QE-2000 日本大冢量子效率測量系統(tǒng)QE-2000 日本大冢量子效率測量系統(tǒng)QE-2000
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界達電位OTSUKA大冢量子點評系統(tǒng)界達電位OTSUKA大冢量子點評系統(tǒng) 激光粒徑分析儀 激光粒度儀 激光粒徑儀 激光散射粒度分布儀 固體表面zeta電位 固體zeta電位 優(yōu)良分子量測量 分子直徑測量 分子量測量 粒度儀 粒徑儀 粒度分析儀 粒度測定儀 zeta電位儀 zeta電位測試 zeta電位測量儀 zeta電位測試儀 納米粒徑分析儀 zeta電位測定儀 nanoSAQL 納米粒度儀 ze
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OTSUKA大冢-量子點評系統(tǒng) 量子點材料具有根據(jù)粒子直徑不同發(fā)光波長發(fā)生變化的特性。 在本系統(tǒng)中，在評價粒子直徑以及分散穩(wěn)定性的同時，也可以對熒光特性進行評價。 OTSUKA大冢-量子點評系統(tǒng)OTSUKA大冢-量子點評系統(tǒng)OTSUKA大冢-量子點評系統(tǒng)
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OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series OTSUKA大冢液晶層間隙量測設備RETS series
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日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100 日本OTSUKA大冢相位差膜?光學材料檢查設備RETS-100
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“一步操作”是一種追求用戶友好性的設備，無需任何繁重的工作，設置樣品即可立即看到結果。 該設備旨在縮短檢測過程，無需校準曲線即可高精度、高分辨率地輕松找到優(yōu)良厚度。 由于使用了大冢電子開創(chuàng)的光學方法，因此可以在不接觸的情況下高精度測量不透明、粗糙表面和容易變形的樣品，同時節(jié)省空間。
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除了可實現(xiàn)高精度薄膜分析的光譜橢偏儀外，我們還通過實施自動可變測量機制支持所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉光子檢測器方法外，還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機制來提高測量精度。
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它是一種緊湊、低成本的薄膜厚度計，它通過簡單的操作實現(xiàn)了高精度光學干涉測量的薄膜厚度測量。 我們采用一體式外殼，將必要的設備安裝在主體中，實現(xiàn)了穩(wěn)定的數(shù)據(jù)采集。 通過以低廉的價格獲得**反射率，可以分析光學常數(shù)。
