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產品詳情
簡單介紹：
? 批量
常壓 CVD 設備，用于在大型托盤中裝載多個晶圓
氣相沉積設備
詳情介紹：
特點
這是一種批量式氣相沉積設備
常壓CVD裝置，在大型托盤中裝載多個晶圓，托盤在分散頭下往復沉積。
可對應異形基板。
設備尺寸緊湊，占用空間小。
性能
| 薄膜厚度均勻性 | 取決于薄膜厚度和薄膜類型 | |||||||||||||||||
| 支持的晶圓尺寸 | 以可加熱區(qū)域為準 | |||||||||||||||||
| 氣體種類 |
SiH4, O2, PH3, B2H6, N2 (TEOS, TEB, TMOP, O3， TMA 可選） |
|||||||||||||||||
| 沉積溫度 | 350～450℃ (200～350℃) | |||||||||||||||||
| 生產力 | ― | |||||||||||||||||
主要規(guī)格
| 設備尺寸 | 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H) | |||||||||||||||||
| 加熱機構 | 電阻加熱 | |||||||||||||||||
| 卸載 | 手動方法 | |||||||||||||||||
|
分散頭 （氣體噴嘴） |
A63 頭 | |||||||||||||||||
南京代理AMAYA天谷制作所小型生產和開發(fā)的常壓 CVD 設備 D501
常州代理AMAYA天谷制作所小型生產和開發(fā)的常壓 CVD 設備 D501
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無錫代理AMAYA天谷制作所小型生產和開發(fā)的常壓 CVD 設備 D501
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